| dc.contributor.advisor | NUGROHO, ARIS WIDYO | |
| dc.contributor.advisor | RAHMAN, MUHAMMAD BUDI NUR | |
| dc.contributor.author | MUHAMMAD, BAGJA RESTU | |
| dc.date.accessioned | 2017-04-19T03:40:57Z | |
| dc.date.available | 2017-04-19T03:40:57Z | |
| dc.date.issued | 2017-01-12 | |
| dc.identifier.uri | http://repository.umy.ac.id/handle/123456789/10125 | |
| dc.description | DC magnetron sputtering memiliki beberapa keunggulan dibandingkan dengan teknik-teknik pembentukan film tipis lainnya. penumbuhan film tipis dengan metode magnetron sputtering merupakan salah satu metode pelapisan pada bahan non logam, dimana prosesnya mudah dan membutuhkan waktu relatif cepat dibandingkan dengan proses pelapisan biasa. Tugas akhir ini membahas tentang perancangan dan pembuatan DC magnetron sputtering skala laboratorium.
Langkah pertama proses perancangan dan pembuatan adalah dengan merancang mesin sputtering secara keseluruhan menggunakan Software Autodesk Inventor. Komponen yang didesain dan dirangkai meliputi vakum chamber dan power supply yang terdiri atas transformator, diode bridge, kapasitor, dan indokator. Pengujian DC magnetron sputtering melakukan proses pelapisan pada substrat kaca dengan ukuran (70 mm x 35 mm x 2 mm) dan menggunakan variasi waktu 90 detik dan 130 detik, tekanan vakum 10-2 torr, tegangan 150 volt, dan arus (Imax) 1 ampere. Kemudian hasil pelapisan diamati secara visual dan diukur hambatannya menggunakan multimeter digital.
Hasil perancangan dan pembuatan DC magnetron sputtering diperoleh tegangan voltage regulator maksimum 180 volt dengan pembatasan arus fuse sebesar 8 ampere. Tegangan power supply sama dengan besar tegangan voltage regulator. Out put dari voltage regulator digunakan sebagai input power supply. Tekanan vakum maksimal tercatat sebesar 25 micron/ . Mesin DC Magnetron Sputtering telah berhasil dibuat dan berfungsi. Dilakukan dua kali pengujian pada mesin, percobaan pertama dengan waktu 90 detik menghasilkan hambatan sebesar 12.6 Ω dan percobaan kedua dengan waktu 120 detik menghasilkan hambatan sebesar 9.2 Ω. | en_US |
| dc.description.abstract | DC magnetron sputtering memiliki beberapa keunggulan dibandingkan dengan teknik-teknik pembentukan film tipis lainnya. penumbuhan film tipis dengan metode magnetron sputtering merupakan salah satu metode pelapisan pada bahan non logam, dimana prosesnya mudah dan membutuhkan waktu relatif cepat dibandingkan dengan proses pelapisan biasa. Tugas akhir ini membahas tentang perancangan dan pembuatan DC magnetron sputtering skala laboratorium.
Langkah pertama proses perancangan dan pembuatan adalah dengan merancang mesin sputtering secara keseluruhan menggunakan Software Autodesk Inventor. Komponen yang didesain dan dirangkai meliputi vakum chamber dan power supply yang terdiri atas transformator, diode bridge, kapasitor, dan indokator. Pengujian DC magnetron sputtering melakukan proses pelapisan pada substrat kaca dengan ukuran (70 mm x 35 mm x 2 mm) dan menggunakan variasi waktu 90 detik dan 130 detik, tekanan vakum 10-2 torr, tegangan 150 volt, dan arus (Imax) 1 ampere. Kemudian hasil pelapisan diamati secara visual dan diukur hambatannya menggunakan multimeter digital.
Hasil perancangan dan pembuatan DC magnetron sputtering diperoleh tegangan voltage regulator maksimum 180 volt dengan pembatasan arus fuse sebesar 8 ampere. Tegangan power supply sama dengan besar tegangan voltage regulator. Out put dari voltage regulator digunakan sebagai input power supply. Tekanan vakum maksimal tercatat sebesar 25 micron/ . Mesin DC Magnetron Sputtering telah berhasil dibuat dan berfungsi. Dilakukan dua kali pengujian pada mesin, percobaan pertama dengan waktu 90 detik menghasilkan hambatan sebesar 12.6 Ω dan percobaan kedua dengan waktu 120 detik menghasilkan hambatan sebesar 9.2 Ω. | en_US |
| dc.publisher | FT UMY | en_US |
| dc.subject | DC magnetron sputtering, film tipis, substrat. | en_US |
| dc.title | PERANCANGAN DAN PEMBUATAN MESIN DC MAGNETRON SPUTTERING SERTA PENGUJIAN AWAL | en_US |
| dc.type | Thesis
SKR
452 | en_US |
